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RPD5500A型反应式等离子体镀膜设备

  • RPD5500A型反应式等离子体镀膜设备

    RPD5500A型反应式等离子体镀膜设备

    客户：捷佳伟创股份      服务：外观设计

    客户：捷佳伟创股份
    服务：外观设计

    • 项目背景

    The Background

    该设备具有高解离率离子、低轰击能量镀膜，可在大面积衬底上镀制高性能薄膜，不损伤衬底表面，保持良好的接口特性，相比传统的PVD设备，可以减少对钙钛矿电池的轰击损害，有利于提高转换效率和良率，主要用于沉积高质量透明导电薄膜，是经长期量产验证的精密镀膜技术。

    原始图（设计之前）

    新外观（设计之后）

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